ケイ素の極薄シート作製に新手法 電子材料に応用期待 

ケイ素の原子が平面上に並んだ「シリセン」の顕微鏡写真(北陸先端科学技術大学院大提供) 

 原子1個分の厚みしかない極薄のケイ素のシート「シリセン」を、大きく作ることのできる新手法を開発したと、北陸先端科学技術大学院大(石川県能美市)の研究チームが30日、発表した。

 シリセンは、ノーベル賞の対象となった炭素シート「グラフェン」のケイ素版。半導体の性質を持たせることができるため、高速な電子回路など新たな素材の開発につながると期待されている。

 チームは縦1センチ、横2センチのシリコン基板の表面をセラミックスの薄膜で覆い、特殊な真空装置で900度に加熱。するとシリコンに含まれるケイ素が薄膜を通過して表面に現れ、表面にシリセンを作ることに成功した。


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